부식성능이 극히 우수하고 부식공정중에 맹독성이 없는 천연대리석부식용 조성을 및 이를 이용하는 조각방법에 관한 것이다.

본 발명에 따른 천연대리석부식용 조성물은 질산(HNO3) 4-7몰 농도, 초산(CH3COOH) 0.1-2몰 농도 및 과산화수소(H2O2) 1-2. 5몰 농도인 수용액에 수산화나트륨(NaOH) 0.05-0.3몰을 가하여 제조된 것이다.

상기 조성물을 이용하는 본 발명의 천연대리석조각방법은 조각할 천연대리석에 접착테이프를 부착하여 먼저 깊게 조각할 부분의 접착테이프률 오려낸 후 천연대리석을 상기 조성물을 1차 부식시킨 후, 다시 얕게 조각할 부분의 접착테이프를 추가로 오려내어 2차 부식을 시키는 복층부식방식과, 인쇄용 잉크를 직접 천연대리석에 인쇄하여 천연대리석을 부식시키는 단층부식방식이 있다.

조각할 천연대리석에 접착테이프를 부착하여 먼저 깊게 조각할 부분의 접착테이프률 오려낸 후 천연대리석을 상기 조성물을 1차 부식시킨 후, 다시 얕게 조각할 부분의 접착테이프를 추가로 오려내어 2차 부식을 시키는 복층부식방식과, 인쇄용 잉크를 직접 천연대리석에 인쇄하여 천연대리석을 부식시키는 단층부식방식이 있다.

- 인체 무해한 특수 수용액으로 천연대리석을 녹여 가공
- 전세계적으로 당사만이 가지고 있는 첨단기술
- 제조설비와 그 가공기법이 아주 단순
- 가공시간이 30초~20분 정도로 극히 짧음
- 가공비용이 기존공법의 1/4 ~ 1/5정도의 경쟁력 유
- 저비용 고효율의 기술로서 대량생산 가능

- 인체 무해한 특수 수용액으로 천연대리석을 녹여 가공
- 전세계적으로 당사만이 가지고 있는 첨단기술
- 제조설비와 그 가공기법이 아주 단순
- 가공시간이 30초~20분 정도로 극히 짧음
- 가공비용이 기존공법의 1/4 ~ 1/5정도의 경쟁력 유
- 저비용 고효율의 기술로서 대량생산 가능